2025飛納電鏡選型指南--打造高效實驗室，科研儀器投資物超所值的寶典！

2025飛納電鏡選型

—— Free to Achieve ——

飛納 (Phenom) 源自 FEI，誕生于荷蘭 “發明之城” 埃因霍溫，以 “任何人都可用的電鏡” 聞名。讓您的掃描電鏡測試變得簡單高效是我們一直以來的目標。

飛納目前在中國擁有 2000 多名用戶，包括數百家高校；中科院等各類研究院所；政府機構；以及新能源、生命科學等企業單位。研究領域涉及金屬及合金，電池，地質，考古，高分子，靜電紡絲，陶瓷，復合材料，生物醫學，微生物等。

制樣簡單 無需噴金即可觀察不導電樣品

飛納臺式掃描電鏡

• 相較傳統電鏡，成像速度提升 10 倍：

• 采用，平均 3 年以上更換燈絲

• 不挑安裝環境，，放置高樓層也無需擔心

• 原廠集成能譜 EDS，

• 讓精密儀器無后顧之憂，

• 最“老”的電鏡，也是最“新”的電鏡!

• 自動化掃描電鏡，讓測試效率翻倍

01. 新品速遞

2024 年，飛納電鏡推出一系列新技術-- ChemiSEM 彩色成像軟件，ChemiPhase 物相分析軟件和 Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等新技術，不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統認知，而且將掃描電鏡成像分析帶入一個全新的高度。

ChemiSEM 技術

EDS 能譜儀在電鏡工作時始終在后臺收集成分數據，利用算法同時處理 BSE 和 EDS 信號，實時顯示樣品的形態和定量元素分布結果。簡化對金屬、陶瓷、電池、涂層和軟材料等多種材料的復雜分析。

ChemiPhase 物相分析

統計分析 X 射線面掃成像數據，并按照成分組成的特異性進行相的劃分，提取出特征相分布。同時具有相歸類，計算相比例等功能，非常適用于合金、陶瓷、礦物分析等領域的測試分析。

Phenom MAPS 系統

Phenom MAPS 提供的是一個涵蓋所有樣品信息的數碼存檔，從全面（宏觀）到具體（微觀）無所不包，變革了傳統掃描電鏡的分析與數據存儲模式。并且，多圖層數據可以包含能譜。

此外，飛納電鏡還為大家帶來集成于臺式掃描電鏡的 AFM（原子力顯微鏡）方案 —— Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機，實現在同一系統中對樣品進行多模態（SEM 及 AFM 形貌、元素、機械、電學、磁學）的關聯分析。

Phenom AFM-SEM 在樣品分析和先進的 3D 相關成像方面為用戶提供了可能性，具有圖像對齊精度。多功能性證明了其在材料科學、納米技術、半導體、太陽能電池開發、生命科學和其他研究領域以及工業應用等各個領域的適用性。

02. 電鏡選型

系列一 | 臺式場發射掃描電鏡

飛納臺式場發射掃描電鏡，防震，在臺式機身上獲得接近大型場發射的性能。優秀的低電壓成像能力，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，大程度還原樣品的真實形貌。延續電鏡能譜一體化設計，升級的快速面掃可以即時顯示所選元素的分布情況，實時能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

產品

特點

• 肖特基場發射電子槍

• 分辨率最高的臺式電鏡

• 可選 STEM 模式：BF、DF、HAADF 像

• 低電壓成像

• 電鏡能譜一體化設計

• 不受震動、磁場等環境因素干擾

型號推薦

Pharos STEM 掃描透射電鏡

• 分辨率：優于 1nm

• 成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 臺式場發射掃描電鏡

• 分辨率：優于 1.5 nm

• 放大倍數：2,000,000 X

Nano G2 臺式場發射掃描電鏡

• 分辨率：優于 2.5 nm

• 放大倍數：1,000,000 X

系列二 | 六硼化鈰燈絲（CeB6）掃描電鏡

全新一代六硼化鈰（CeB6）晶體燈絲掃描電鏡，臺式設計，防震。操作便捷，適用不同經驗級別的用戶，培訓 30 分鐘即可上手操作。支持拓展各種特色功能。

產品

特點

• 采用 CeB6燈絲，高分辨成像，使用時長不低于 1500h

• 成像最快的掃描電鏡：15s 抽真空，30s 成像

• 電鏡能譜一體化設計

• 不受震動、磁場等環境因素干擾

型號推薦

Phenom XL 大樣品室版

• AI 智能化全自動掃描電鏡：Maps 地圖式多模態、多維度自動掃描拼圖及關聯系統

• 100x100mm 大樣品倉室：36 個樣品位、超越落地式電鏡的樣品可視區域（100*100 mm）；可選配原位拉伸/壓縮樣品臺

• 集成能譜 EDS（選配）：原廠集成能譜探測器，實時能譜面掃，物相分析，大面積能譜拼圖

• 開放編程接口的自動化掃描電鏡：支持自定義腳本編程，自定義專屬您的SEM工作流，可自定義自動化拍照、自動形成數據報告等

高性價比系列推薦

Phenom ProX

• 放大倍數：350,000 X

• 分辨率：優于 6 nm

• 探測器：BSD，SED（可選），EDS

Phenom Pro

• 放大倍數：350,000 X

• 分辨率：優于 6 nm

• 探測器：BSD，SED（可選）

Phenom Pure

• 放大倍數：175,000 X

• 分辨率：優于 10 nm

• 探測器：BSD，SED（可選）

系列三 | ParticleX 全自動掃描電鏡

ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎，結合自動控制系統以及強大的數據庫系統，可以全自動對雜質顆粒進行快速識別、分析和分類統計，為客戶的研發以及生產提供快速、準確和可靠的定量數據支持。

型號推薦

ParticleX Battery

全自動鋰電清潔度分析

• Cu、Zn 異物及鐵磁性異物檢測

ParticleX TC

全自動汽車清潔度檢測

• 符合 ISO16232，VDA19 標準

ParticleX Steel

全自動鋼鐵夾雜物分析

• 一體化鋼中非金屬夾雜物分析

ParticleX

全自動顆粒統計分析

• 顆粒分析及過程控制的工業級解決方案

系列四 | 刑偵司法鑒定專用掃描電鏡

Phenom GSR 槍擊殘留物分析

在qz事件中，槍擊殘留物（GSR）的分析發揮著重要的作用。GSR 分析技術首先基于掃描電子顯微鏡（SEM）的背散射成像，用來掃描樣品和發現 “可疑” 的 GSR 顆粒。一旦發現可疑的顆粒，使用能譜（EDS）識別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb，Sb 和 Ba。無鉛底火的檢測，例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進行搜索。

Diatom AI 自動檢測系統（電鏡）

DiatomAI™ 利用人工智能的技術，賦能法醫硅藻檢驗系統，配合 DiatomScope™ ，實現了掃描和檢測的全自動化。它是目前市面上可靠、高效、自動化程度最高的硅藻檢測解決方案，幫助法醫在檢測過程中實現硅藻的全自動檢測，識別過程全程無需人工參與。大大縮短了檢測時間，提升工作效率。

03. SEM 樣品制備

SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡（SEM）和電子背散射衍射（EBSD）樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品，并為 EBSD 分析制備無損表面。該設備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質量的樣品，例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現出色的效果。

產品特點

• 氬離子束無應力處理樣品

• 定位精準：可實現± 1微米

• 離子槍能量最高：0-16KV

• 超大樣品腔室：可容納直徑 50mm 樣品

• 制冷設計：液氮 LN2 制冷

• 可選配真空轉移功能

應用案例｜電子器件失效分析

在對焊接部位的焊接情況進行分析時，需要觀測該部位剖面的合金相分布情況，此時需要用到截面切削的制樣設備--離子研磨儀，進行無應力樣品切削制備后，使用飛納電鏡進一步分析焊接情況。

1,000X (Mix模式，離子研磨后)

3,000X (Mix 模式，離子研磨后)

進一步結合 EDS 能譜面掃分析可知：銀-錫膏和銅面結合，界面有銅-錫為主合金化晶粒生長，銅引腳有鍍鎳層，并在內部發現有大量的鐵富集相夾雜，近銅界面發現有氣孔存在。

焊錫截面 EDS 能譜面掃結果

使用 SEMPREP SMART 處理后的 SEM 圖：

氧化鋁陶瓷材料

半導體失效分析

鋰電池正極極片